三星s20、苹果11，华为p40买哪个合适_中国目前光刻机处于怎样的水平

三星s20、苹果11，华为p40买哪个合适

如果平时比较支持国产的话，建议华为吧。或喜欢安卓系统的，就远三星或华为呗。

我2013年买的第一款智能手就是oppo909，当时花了2998元，用了两年多，安卓系统的手机用久了会有点卡，想要换的时候，去了解一下价格，市场上当时的oppo、华为、vivo手机的新款也要3千多差不多4千块钱。苹果6当时的港版是16G的4600，当时是有16G和64G的。

身边的好多人都是用苹果的，说网速顺畅，一个苹果手机，如果只是平时看看新闻，玩玩微信，几年是没有问题的，4000多可以用几年，安卓系统的手机可能2年后又要换了。所以权衡之下，买了iPhone 6。

第一次用苹果系统的手机，不了解它的内存16G其实跟安卓的内存不一样的，就只买了16G的。结果，安卓只占25M内存某一聊天软件，苹果的是占500多内存，当下就觉得不行，用了不到一个月，立马换当时最大内存的64G，花了刚好5千。（还是挺顺利，当时把16G的处理，没亏多少钱）。

用过苹果系统后，我觉得真的确实是不错，不是我不爱国，是确实佩服人家的技术😀。

用了两年后，跟我同期买，但买的是安卓系统的手机的同事，手机打开网站开始有点不顺畅，我的没啥问题。

我的系统也一直没升级，还是最初的系统。后来，为了某个app，要下载，只能升级了最新系统。刚开始升级的时候，很卡，恨不得直接把手机砸了的心情，问维修手机的人员，说是有的升级后会有这样的情况，久了就顺畅了。没办法，只能等。慢慢的，情况也就好转了。

就这样一直用到2019年的8月份，就开始变得缓慢了，毕竟11要出来了，而我也用了4年半，也萌生了换手机的念头，11和11pro，价格差距很大，好多人说11不怎么样，而且传得沸沸扬扬的5G时代要来了，花6千多钱，以后5G要出来了，，手机不支持，到时候还得换，这个真心是肉痛。

然后就去了解安卓机，哎哟，新款的也很贵😂，便宜的又觉得各方面的配置不咋样，唉，纠结。

最后，还是买了苹果的，只不过买的8P。朋友刚买，马上转手的，所以不贵，3千不到，而且是2019年3月生产的机子。能用3年，到时候5G普遍了换的时候就不心疼啦😀。

总结了用苹果的经验，照相出来的效果没有安卓机的好，电池用久了耗电快，我的6，四年多换了3块电池，大概花了300块钱。其他的就没啥问题了

所以，买手机看你自己的选择，每款手机都有某一特性。选择自己喜欢的，才是最好的，买自己不喜欢的，会影响使用的心情😃。

三星s20、苹果11，华为p40买哪个合适？

首先非常感谢在这里能为你解答这个问题，让我带领你们一起走进这个问题，现在让我们一起探讨一下。

先考虑自身的使用情况，看你说的这三款机型都属于高端机型；也就不存在耐不耐用一说了，三款使用个四五年都是完全没有问题的。苹果iOS系统封闭式能够体验到的乐趣不多；三星和华为安卓系统体验不一样的感觉，但是三星和华为两个摄像头都非常出色，具体还是建议你看一下实机在做决定。

希望我的回答能够帮助到你！

中国目前光刻机处于怎样的水平

目前来看，我国自研的光刻机还依然处于制程工艺为90纳米的水准。

这个水准的光刻机，隶属于第四代步进扫描式光刻机，采用的是波长为193纳米的，深紫外光ArF光源，其制程工艺在135纳米-65纳米之间。

与浸没式光刻机相比差半代，与EUV光刻机相比差一代。

国内这型制程工艺在90纳米的光刻机，也就是由上海微电子生产的SSX-600/20型光刻机。

该光刻机采用了四倍缩小物镜，自适应调焦调平技术，六自由度工件台掩膜台技术，可以适应8寸或者12寸的晶圆。

也就是说，目前国内最先进的光刻机，也只能达到90纳米的制程工艺，不过经过多次曝光之后，估计制程工艺还会进一步缩小。

而国际上最先进的，制程工艺最低的，就是ASML集成的EUV光刻机。该光刻机的制程工艺已经达到了7纳米，采用了波长为13.5纳米的EUV光源；镀了近百层钼和硅制成薄膜的反射镜，而薄膜的粗糙度控制在零点几纳米级别；还有运动精度误差控制在1.8纳米的双工件台。以上只是EUV光刻机，最为重要的三大部件。而一整台EUV光刻机是由10万多个零部件，且还要经过工程师上百万次的调试，才可以交付使用。

想象一下10万多个零部件是什么概念。

一般的家用小轿车只有2万多个零部件。

一架波音737NG约有50多万个部件。

可想而知，组装一台光刻机的难度有多大。当然了，不仅仅是组装完成之后就完事了，还对装配的精度要求相当的高。

而要制造出EUV光刻机，就要在光源，反射镜，双工件台这三大技术上取得突破。而这三大件也是，在光刻机中制造难度最大的。只要解决了这三大部件，EUV光刻机剩下的部分就没那么难了。

目前来说，光源，双工件台，反射镜都有企业在研发。只不过，想要达到适合EUV光刻机使用的标准，还有一段要走，对于科学研究来说，万万是急不得的。毕竟ASML生产的EUV光刻机，是集合了美，日，德，英，欧的最尖端科技。仅凭一国，想要将以上的尖端科技全部握在手中的话，那难度有多大是可以想象的。

国内研发双工件台的主要就是华卓精科。

研发光源有科益虹源，福晶科技。

研发反射镜的有奥普光电，国望光学。

研究浸没系统的有启尔机电。

研究光刻胶的有容大感光，南大光电。

以上就是国内正在研究光刻机各种部件的企业，而集成的话有上海微电子。

隔着一代的差距，是需要时间和持续的投入做基础的。也只有等到国内与光刻机制造相关的技术突破后，各种部件的制造才有了突破的希望。

现阶段就是深耕细作的时期，事已至此，抱怨无用，想法赶上，赢得未来。

目前来看，90纳米制程工艺的光刻机，基本上可以满足工业芯片的生产需求，暂时不需要担心。而高端芯片也只是在手机，电脑上使用的比较广泛，对工业，军工的影响不大。完全可以等到国产EUV光刻机完成之后，再发力。

    我国的光刻机技术仍然处于低端水平，上海微电子的光刻机代表我国光刻机的最高水平，制程工艺为90nm，而ASML的光刻机已经进入5nm的制程工艺，我国的高端光刻机全部依靠进口。下文具体说一说。

    光刻机的“技术壁垒”

    光刻机的技术门槛极高，可以说是集人类智慧大成的产物。

    ASML的光刻机超过90%的零件向外采购，整个设备采用了全世界上最先进的技术，是多个国家共同努力的结果，比如德国的光学设备和精密机械，美国的计量设备和光源设备。一台7nm EUV光刻机包含了5万多个零件，13个系统，需要把误差分散到这个13个子系统中，所以每个配件必须得非常精准。

    最关键的是生产光刻机所需的关键零件，对我国是禁运的，所以制约了我国光刻机技术的发展。

    ASML的光刻机

    目前，全球光刻机领域的龙头老大是荷兰的ASML，占领了80%的市场，日本的尼康和佳能已经被ASML完全击败。最先进的EUV光刻机，只有ASML能够生产。大家所使用的的手机的处理器、电脑的CPU，大部分是ASML的光刻机制造出来的。

    ASML的7nm EUV光刻机已经非常成熟，华为的麒麟980处理器、苹果的A12处理器、高通的骁龙855处理器均是有台积电代工使用ASML的7nm 光刻机生产的。据说，ASML已经开始生产5nm制程的光刻机。

    我国的光刻机

    我国光刻机领域的龙头企业是上海微电子装备有限公司（SMEE），可以稳定生产90nm制程工艺的光刻机，并且占领了国内80%的光刻机市场，上海微电子正在研制65nm制程的光刻机。

    根据我国重大专项计划提出，在2020年实现22nm制程的光刻机。

    总之，相比德国、日本、美国我国的芯片制造以及超精密的机械制造方面有一定的差距，同时国外对我国的“技术封锁”，关键零件“禁运”相比ASML最新的EUV 7nm光刻机，我国的光刻机仍然有很大的差距。