激光雕刻机怎么刻两遍？
需要结合具体情况来回答该问题。
如果是在同一个位置上刻两遍，可以将需要刻的图案进行反复复制，这样一遍刻完后再将原来的位置重新设置好，然后再次重复刻画即可。
如果是需要刻画不同位置的图案，则可以利用软件的多次雕刻功能，通过软件设置不同的坐标来实现多次雕刻。
所以，无论是同一个位置还是不同的位置刻画，都需要在软件中进行相应的设置和操作，以达到多次刻画的效果。
冰刻机现在能做到几纳米？
冰刻技术完全可以实现与EUV光刻机相当的精度。只不过要实现这个精度，必须让电子束直写光刻机的的分辨率达到纳米级别才行。
其实“冰胶+电子束”的效率是远远比不上“光刻胶+光刻机”的。因为要让水蒸气凝结在晶片上，还必须在零下140 进行，此外使用的还是电子束刻机，要一点一点的进行雕刻那速度比较慢。从制造效率上来看，这种冰刻技术是不如光刻机的。而冰刻的分辨率主要取决于电子束刻机，虽说电子束直写光刻机的精度已经达到了10纳米左右甚至以下的精度，但是国内电子束直写光刻机的精度在1微米，还没有达到纳米级别。事实上，冰刻技术只是将化学的光刻胶换成了水蒸气而已。
0